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三星、應用材料就“間諜門”達成和解

    泡泡網(wǎng)內(nèi)存頻道12月1日 此前美國半導體設(shè)備供應商應用材料員工將三星芯片處理工藝技術(shù)外泄海力士從而聯(lián)力上演了現(xiàn)實版無間道,為了避免日后遭到三星的起訴,應用材料近日與三星達成和解。

三星、應用材料就“間諜門”達成和解

    應用材料今天表示,未來三年他們將以提供折扣的方式向三星及其附屬公司出售半導體設(shè)備,具體優(yōu)惠幅度則要根據(jù)采購量而定。雙方達成的協(xié)議將從11月1日開始執(zhí)行。

    三星發(fā)言人Nam Ki Young表示,他們已經(jīng)與應用材料就技術(shù)泄露一事達成和解,但并未披露細節(jié)內(nèi)容。

    韓國檢方今年2月對10名應用材料員工提起訴訟稱,他們在過去四年多的時間內(nèi)將三星存儲芯片制造技術(shù)泄露給海力士。應用材料此前表示,所受指控員工中包含其前韓國主管,三星當時并未對應用材料公司提起訴訟。

    不過雙方達成的和解協(xié)議并不針對涉案員工,三星對于應用材料韓國分公司現(xiàn)任、前任員工的指控還將在首爾東部地區(qū)法院繼續(xù)進行?!?/P>

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